光刻胶的原理

光刻胶它又被称为光致抗蚀剂，主要指的是通过太阳光、X射线等的照射使光刻胶内部的溶解度发生改变。

光刻胶通常都是由光敏材料复合而成，主要的材料是感光树脂、增感剂和溶剂3种，这三种液体经过高温融化后再由特殊的工艺进行加工，涂抹在物品表面就可以作为一种抗腐蚀的涂层。

光刻胶可以分为两大类，一类是正性光刻胶，一类是负性光刻胶。

正性光刻胶又名正胶，它的主要材料一共有三种，树脂溶剂和感光材料，光刻胶要接受到光线进行成像就必须要有感光材料的帮助，溶剂的作用是为了使光刻胶保持液态，因为光刻胶在常温下很快就会凝固，而溶剂则可以延缓它的凝固速度，让它在被附着在硅胶表面之前都维持着一个液体的状态。

在经过一系列的过程之后，曝光部分会被化学剂溶解，而未经过曝光的那一部分光刻胶材料就会被保留下来，这种涂层材料就被称为正胶。

负性光刻胶里面大多数的材料都与正性的相同，但唯一不同的是它多了一个感染料，那些在经过光照后不能溶解的光刻胶就称为负胶。

检验一个光刻胶的好坏主要有以下几点，第一点是看它的感光材料对光的折射率和吸收率，第二点是溶剂的黏滞度，抗腐蚀性，第三点是热稳定性流动性等等，这些都是评判一个光刻胶好坏的重要一点。

一、彤程新材

21年年报营业总收入为23.08亿，同比增长12.83%，净资产收益率12.84%

公司是我国领先的半导体光刻胶龙头企业，同时也是拥有自主知识产权KrF光刻胶的生产供应商，公司可以实现主流半导体企业在8寸和12寸线的需求，并积极推进高端光刻胶的国产化替代进程。

此外，旗下企业是我国为数不多拥有国外ASML曝光机的光刻胶企业，是以光刻胶研发和生产等方面的中外合资企业。

二、南大光电

21年年报营业总收入为9.84亿，同比增长65.46%，净资产收益率8.75%

北京科华是公司的参股的企业，该企业开发的248nm光刻胶已得到认证，公司已推进自主创新和产业化的193nm光刻胶项目，获得了相关部门193nm光刻胶和ArF光刻胶项目的正式立项。

公司还建立了专业的研发团队，产品研发进展和成果得到业界专家的认可，同时公司拥有研制光刻胶材料的能力，已开发的多款先进光刻胶产品在客户端的评估中获得好评。

三、晶瑞电材

21年年报营业总收入为13.09亿，同比增长83.31%，净资产收益率11.89%

在光刻胶方面，公司的光刻胶产品是由旗下企业来生产，旗下企业是我国光刻胶领域的先行者，规模生产光刻胶近30余年，产品技术水平处于国内领先地位。

公司承担并完成了相关部门的i线光刻胶产品项目，拥有国内外领先水平的光刻胶生产线，以及拥有相关部门的一流光刻胶研发和评价实验室。

以上数据内容只是个人看法，不分排名先后，不做投资依据，投资有风险，入市需谨慎！